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POWER MOSFET與IGBT之基礎(chǔ)知識(shí)


    POWER MOSFET(POWER METAL OXIDE SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT TRANSISTOR:大功率金屬氧化物半導(dǎo)體場效晶體管)已成為大功率組件(POWER DEVICE)的主流,在市場上居于主導(dǎo)地位。以計(jì)算機(jī)為首之電子裝置對(duì)輕薄短小化以及高機(jī)能化的要求帶動(dòng)POWER MOSFET的發(fā)展,此一趨勢(shì)方興未艾,技術(shù)之進(jìn)步永無止境。在龐大計(jì)算機(jī)市場支撐之下,IC 開發(fā)技術(shù)人員在「大功率組件采用單晶IC(MONOLITHIC)技術(shù)」方面促成了MOS系大功率組件的突破。尤其是低耐壓大功率 MOSFET,隨者其母體“MOS IC”之集積度的提高而性能大增(雙極晶體管﹝BIPOLAR TRANSISTOR﹞無法達(dá)到)。大功率MOSFET的動(dòng)作原理十分容易了解,適合于驅(qū)動(dòng)電路及保護(hù)電路等制成IC。 
     大功率組件(POWER DEVICE)不可避免地會(huì)發(fā)熱,在此情況下,POWER MOSFET的MOS(METAL OXIDE SEMICONDUCTOR)系閘極(GATE)四周圍繞的絕緣膜(材質(zhì)通常為SiO2)的品質(zhì)決定其特性及可靠度。在組件技術(shù)及應(yīng)用技術(shù)確立之時(shí)期,開發(fā)完成“AVALANCHE FET”并付諸生產(chǎn),此種組件即使是在崩潰(AVALANCHE)之情況下也不會(huì)發(fā)生破壞。之后,大功率 MOSFET(POWER MOSFET)剩下的未解決課題是高耐壓化,1998年在市場嶄露頭角的“COOL MOS”將業(yè)界水準(zhǔn)一舉提高至相當(dāng)高的層次。AVALANCHE FET 及COOL MOS可以說是確定MOS系大功率組件之評(píng)價(jià)的兩大支柱。
     在當(dāng)初,IGBT(INSULATED GATE BIPOLAR TRANSISTOR)期待只將NCH POWER MOSFET 的基片(SUBSTRATE)的極性從n型變更成p型就能夠?qū)崿F(xiàn)高耐壓、大電流組件,但是,IGBT 在本質(zhì)上為雙及組件(BIPOLAR DEVICE),對(duì)于單及組件(UNIPOLAR DEVICE)POWER MOSFET 世代的技術(shù)人員而言較為難以了解。近年來,雙極晶體管(BIPOLAR TRANSISTOR)的基礎(chǔ)知識(shí)以及以往所累積的寶貴經(jīng)驗(yàn)重新受到重視,這是有趣的現(xiàn)象(本來,電子之技術(shù)革新有全盤推翻以往所有技術(shù)的趨勢(shì))。
    進(jìn)入1990年代后,POWER MOSFET及IGBT等MOS系組件取雙極系組件(SCR〔閘流體〕、BJT〔雙極接合型晶體管〕)之地位而代之,如今已成為大功率組件(POWER DEVICE)之主流,其主要原因是,MOS系集成電路如今已成為IC 的主流了。隨著手提型計(jì)算器及計(jì)算機(jī)等之迅速普及,為了節(jié)省消耗功率而延長電池之使用時(shí)間,性能稍差但省電的MOS IC頓時(shí)成為時(shí)代之寵兒。同時(shí),導(dǎo)入先進(jìn)之IC微細(xì)加工技術(shù)之后使得大功率組件之性能大幅提高。

 代表性之?dāng)?shù)字IC的特征 
制造技術(shù)數(shù)位IC積極度﹡能源節(jié)約動(dòng)作速度﹡﹡低電壓化
BIPOLARTTL501~20m1.5~105
I²L300100μ151
MOSCMOS2002.5μ5~103
﹡5μrule之場合GATE/mm²Wn秒V
﹡﹡傳輸延遲時(shí)間

●    POWER MOSFET之特征
第一個(gè)進(jìn)入市場的MOS系大功率組件是POWER MOSFET,當(dāng)初之高耐壓MOSFET的功率損失(POWER LOSS)很大,而且,驅(qū)動(dòng)方法與以往不同,因而為電路設(shè)計(jì)老手所排斥。不過,其高頻特性十分優(yōu)秀,不易破壞在低電源電壓下動(dòng)作時(shí)之功率損失(POWER LOSS)遠(yuǎn)低于以往之組件,因此,發(fā)揮其優(yōu)點(diǎn)的應(yīng)用技術(shù)逐漸普及,以緩慢而穩(wěn)定的速度擴(kuò)展市場。尤其是隨著使用電池電源之便攜式電子機(jī)器的迅速發(fā)展,POWER MOSFET扮演著十分重要的角色。 
    POWER MOSFET的弱點(diǎn)是高耐壓化后之功率損失激增。使用市電AC電源之電子裝置所使用的POWER MOSFET的耐壓必須高達(dá)500~1000V左右,在此高壓領(lǐng)域內(nèi),在動(dòng)作原理上,其功率損失較雙極(BIPOLAR)系大功率組件為大。如果將組件之芯片尺寸(CHIP SIZE)加大時(shí)能夠降低功率損失,但是會(huì)增加成本(在比較組件之電氣性能及價(jià)格時(shí)以相同大小之芯片的條件作比較)。 
●    IGBT之特征
       和POWER MOSFET的比較,IGBT(INSULATED GATE BIPOLAR TRANSISTOR)在耐壓600V以上之領(lǐng)域的功率損失相當(dāng)?shù)汀?a >IGBT的輸出部分屬于雙極組件,具有以往之雙極晶體管(BJT:BIPOLAR JUNCTION TRANSISTOR)的優(yōu)點(diǎn)與缺點(diǎn),雖然可以藉IC之設(shè)計(jì)技術(shù)提高BJT之性能,但是,無法根本解決BJT的電荷存儲(chǔ)時(shí)件(STORAGE TIME)問題(BJT在OFF時(shí)需耗費(fèi)較長時(shí)間),因此,在需要作高速開關(guān)動(dòng)作(HIGH SPEED SWITCHING)之領(lǐng)域較不適合使用IGBT,但是,在使用AC市電驅(qū)動(dòng)之場合(例如驅(qū)動(dòng)馬達(dá)等之場合),在高電壓大功率之應(yīng)用領(lǐng)域內(nèi)使用IGBT的效率遠(yuǎn)較POWER MOSFET為高。 
    分立型半導(dǎo)體組件(DISCRETE SEMICONDUCTOR)將來生存之必需條件是必須能夠以和制作IC相同的設(shè)備來制造(IC之生產(chǎn)量為大功率組件的10倍以上),而POWER MOSFET以及IGBT均具備此條件。
 MOS系大功率組件之分類
大功率組件(POWER DEVICE)可依以下數(shù)點(diǎn)加以分類:1動(dòng)作原理、2使用目的、3組件材料之種類、4截面形狀、5組件基片材料(SUBSTRATE MATERIAL)之極性以及外加電極性、6容許消耗功率及外殼封裝。
    此外對(duì)于POWER MOSFET加以細(xì)分追加以下數(shù)項(xiàng)分類:7表面形狀、8偏壓(BIAS)之方法、9閘極(GATE)構(gòu)造、10組件內(nèi)部之電流流動(dòng)方式。
依動(dòng)作原理而分類

    傳輸電流之媒體有兩種,一種是以一種載子(CARRIER)傳輸電流的媒體,稱為單極組件(UNIPOLAR ELEMENT);另外一種是以二種載子傳輸電流的媒體,稱為雙極組件(BIPOLAR ELEMENT)。前者之具體實(shí)例為FET(FIELD EFFECT TRANSISTOR),后者則有BJT(BI JUNCTION TRANSISTOR)及SCR(SILICON CONTROLLED RECTIFIER)等。如圖所示為這些大功率組件的構(gòu)造簡圖。這些組件均有3個(gè)端子,在組件內(nèi)部有2~3個(gè)PN接合存在。FET和BJT內(nèi)部的PN接合十分相似(不過,F(xiàn)ET為縱向接合,BJT則為橫向接合),不過,兩者之動(dòng)作原理完全不同,F(xiàn)ET自始就只有一個(gè)通道(CHANNEL)存在,換句話說,泄極(DRANIN)和源極(SOURCE)間處于導(dǎo)通狀態(tài)。反之BJT之場合,在射極(EMITTER)和集極(COLLECTOR)之間至少有一個(gè)逆方向PN接合二極管存在,此逆向二極管將電流予以阻絕。SCR由二個(gè)BJT構(gòu)成,SCR顧名思意為整流器,電流僅從陽極往陰極方向作單向流通。如果利用SCR來直接控制正負(fù)變化之交流時(shí),所能控制之范圍為0~50%。將兩個(gè)SCR作反向并聯(lián)連接以擴(kuò)大控制范圍,這就是“TRIAC”電流能夠雙方向流通(如圖示)。

POWER MOSFET與IGBT之關(guān)系
    IGBT(INSULATED GATE BIPOLAR TRANSISTOR)乃是MOSFET與BJT的復(fù)合組件。MOSFET與SCR之復(fù)合組件稱為MCT(MOS CONTROLLED THYRISTOR),如表所示為各種大功率組件的動(dòng)作速度與電流密度的比較。和單極組件POWER MOSFET比較,雙極組件IGBT及MCT能夠藉傳導(dǎo)度調(diào)變提高電流密度。但是,提高電流密度之后難以令其OFF(TURN OFF),于是,電流密度較IGBT為高的MCT的OFF速度更慢。不過,雙極組件的ON速度和MOSFET并無太大差異。

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